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Andreas Wild
Directeur
R&D Freescale Europe
Freescale |
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Andreas
Wild
"La concentration des moyens est un impératif du marché"
Le site de Crolles 2, situé en Isère, réunit les compétences et les investissements de Philips, STMicroelectronics et Freescale autour des technologies 90 nanomètres. Le directeur R&D du fondeur dresse un premier bilan.
08/12/2005 |
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Le site
de Crolles 2 réunit dans un même centre de
R&D le savoir-faire de trois
fabricants de semi-conducteurs - Philips, STMicroelectronics et Freescale (ex Motorola Semiconducteurs) - autour des technologies
90 nanomètres et en-deçà. Une
usine particulière à l'image de son immense
salle blanche (voir la photo).
JDN Solutions. Sur quoi porte
le partenariat entre Philips, STMicroelectronics et Freescale ?
Andreas Wild. Le site de l'alliance Crolles2 permet
le co-développement de la technologie CMOS de base. L'accent
est surtout mis sur les éléments génériques réutilisables
par l'ensemble des partenaires. Concrètement, ces éléments
CMOS sont utilisés dans les téléphones portables, les
PC, imprimantes, la télévision numérique et autres outils de communications.
Comme ces éléments profitent à tous, nous avons intérêt
à tendre vers une synergie des compétences pour partager
les coûts de développements qui deviennent de plus en
plus élevés. Chacun des partenaires se réserve le droit
d'avoir des développements plus pointus sur les créneaux
du marché qui lui sont spécifiques. Nous sommes donc trois
partenaires à termes égaux, chacun apportant des contributions
équivalentes.
Justement,
que partagez-vous ?
Chacun apporte déjà un tiers du capital nécessaire, un
tiers du personnel de recherche - soit 150 à 200 personnes
chez Freescale -, et son savoir-faire. En ce qui nous concerne,
nous sommes arrivés dans le projet en 2002, alors que la coopération existait déjà
entre Philips et STMicroelectronics. Il nous fallait expliquer
l'intérêt de notre contribution, ce que nous avons fait
en partageant notre expérience sur les interconnexions
cuivre dans les circuits, un procédé de fabrication nouveau
car cela se faisait auparavant majoritairement en aluminium.
Ce savoir-faire sur les interconnexions cuivre a facilité
le passage à la gravure en 90 nanomètres alors que, pour
beaucoup, le passage du 130 nanomètres au 90 nanomètres
a coïncidé avec la découverte du cuivre. Nous avons apporté
d'autres choses, par exemple la technologie de photogravure
en ultra-violet extrême qui pourrait devenir la solution
utilisée pour graver des puces en 32 et 22 nanomètres.
Quels bénéfices avez-vous retirés de cette coopération
jusqu'à présent ?
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 Nous
avons introduit le 90 nm de manière
synchrone avec le premier acteur du marché" |
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Nous avions établi une feuille de route en 2002. Trois
ans plus tard, nous respectons ces échéances, bien qu'elles
soient plus agressives que celle du reste de l'industrie. Par exemple,
nous avons introduit et industrialisé ensemble le 90 nanomètres,
de manière synchrone avec le premier acteur du marché [ndlr : Intel].
Dans les procédés de fabrication en 65 nanomètres, nous
avons également certifié les procédés et attendons le démarrage
des prototypes de vrais produits, qui se déroulera dans
les semaines à venir. Enfin, nous démarrons la première
sélection des modules 45 nanomètres à partir d'une hypothèse
de base.
Ce type d'accord de coopération
vous paraît-il indispensable dans l'industrie des semi-conducteurs ?
Pas forcément. En fait, chaque société suit la solution
financière qui la satisfait le mieux. Pour nous, cette
coopération répondait à nos besoins de mettre en commun
des élements non spécifiques.
D'autres sociétés
ont des approches différentes, par exemple les fusions / acquisitions, à l'image de Renesas, ou des consortiums
de recherche qui revendent leur savoir-faire aux industriels.
Ce qui est impératif, c'est la concentration des moyens,
mais la manière de cette concentration peut différer.
Envisagez-vous d'élargir cette
expérience à de nouveaux centres commun de recherche et
développement ?
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L'air
de la salle blanche est complètement
renouvelé toutes les 10 secondes" |
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La question reste ouverte, elle dépendra des résultats
et des avantages de ce centre. Ce qui est certain, c'est
qu'il s'agit aujourd'hui du centre de production le plus
important en 90 nanomètres pour nos 3 sociétés. C'est
aussi le centre de recherche le plus important pour chacun.
Que représente aujourd'hui
le site de l'alliance Crolles 2 ?
Il s'agit d'un "labfab", c'est-à-dire un laboratoire de
recherche qui dispose aussi d'une activité de production
pilote. Il fabrique environ 6 000 plaques par semaine en
équivalence 200 millimètres et 2 500 plaques en 300 millimètres,
le tout avec des possibilités d'extension. Sur le site
travaille près de 1 300 personnes.
L'autre spécificité de l'alliance Crolles2 tient à
sa salle blanche, d'un demi-hectare, sur laquelle l'air
est purifié au maximum pour éviter tout déchet lors de
la fabrication.
Aujourd'hui, on trouve moins d'une particule
de 0,1 µm par pied cube [ndlr : 33cm de coté] d'air, pour une surface de 5 000 mètres carrés et une hauteur de 4,5 mètres.
Pour y parvenir, l'air est complètement renouvelé toutes
les 10 secondes à travers des filtres très fins. Pour
les FOUP, c'est-à-dire les boîtes avec lesquelles les
chercheurs manipulent les plaques de silicium, nous
offrons une classe de pureté de l'air encore supérieure.
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Photo de la salle blanche de Crolles 2
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Propos recueillis par Yves DROTHIER, JDN Solutions |
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