IBM a présenté Nemo, nouveau procédé de gravure à 29,9 nanomètres, rendu possible grâce à la technologie de lithographie par immersion. Cette dernière consiste en l'utilisation d'un rayon laser sur le support en silicium du processeur pendant que ce dernier baigne dans une eau nettoyée de ses impuretés. Ceci permet de réduire le diamètre du faisceau laser de gravure, pour graver encore plus finement.
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